BASF colaborará en el desarrollo de circuitos integrados

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BASF ha entrado en colaboración con el Programa de Afiliación Industrial de IMEC para investigar y desarrollar soluciones innovadoras de limpieza e interconectores avanzados para la industria de circuitos integrados (IC). Las nuevas soluciones de limpieza permitirán incrementar el rendimiento y reducirán la complejidad de la manufactura de semiconductores basados en la tecnología de 32 manómetros (nm) así como futuras tecnologías.

Las nuevas tecnologías de limpieza químicas se esperan que sean comercializadas con la introducción de la tecnología 32-nm en el 2010.

El desarrollo de ICs con características de tamaño incluso más pequeñas que las actuales de tecnología de 65-nm presenta mejores desafíos para el desarrollo de nuevos materiales y químicos.

La evolución de las tecnologías 45-nm a 90-nm ha hecho necesario la exigencia de nuevos materiales que hacen que el proceso de producción de IC llegue a ser complejo.

La colaboración entre BASF e IMEC espera incrementar el rendimiento de la limpieza química y reducir la complejidad y el número de pasos en la producción de IC desarrollando nuevas soluciones de limpieza química.